8 727 250 29 69

tech_info@nanolab.kz logos@nanolab.kz

Главная ОборудованиеОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ НАУЧНЫХ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ИССЛЕДОВАНИЙ Вакуумное оборудование для образования, науки и технологий

Вакуумное оборудование для образования, науки и технологий

Настольная вакуумная установка магнетронного напыления VSE-PVD-DESK-PRO (ВСЭ)


Установка разработана для отработки технологий нанесения покрытий и проведения научных исследований в области материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств (MEMS) и др. методом магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твёрдые и дисперсные образцы.

Отличительные особенности установки:

  • Полностью безмасляная откачка;

  • Визуальный контроль процесса осаждения покрытий;

  • Измерение скорости осаждения, толщины покрытия и ресурса кристалла кварцевыми микровесами с пневматической заслонкой;

  • Минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона;

  • Возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника;

  • Простота использования и высокое качество получаемых покрытий;

  • Высокая повторяемость результатов с заданными свойствами.

Система управления обеспечивает управление откачкой, потоками газов, электромагнитными клапанами, шаговым двигателем и технологическими источниками питания. В устройстве предусмотрены системы блокировок по потоку воды и допустимому вакууму. Опциально реализованы - подача газа непосредственно через магнетрон и нагрев подложкодержателя. Интеллектуальный интерфейс и наличие цветного сенсорного экрана позволяют легко и комфортно управлять рабочим процессом.

Основные технические характеристики:

  • Предельное остаточное давление - 10-7 мБар;

  • Скорость осаждения в зависимости от типа напыляемого материала - до 7,5 Å/сек;

  • Мощность разряда - до 1,5 кВт;

  • Однородность наносимых покрытий - ±10 %;

  • Широкий диапазон плавного регулирования выходной средней мощности - от 0,1 до 3 кВт;

  • Точность позиционирования подложки - до 0,5 мм;

  • Одновременная загрузка 4-х подложек d = 90 мм или 6-ти подложек d = 70 мм;

  • Варьируемая толщина покрытий - от 10-8 м до 10-6 м;

  • Регулировка высоты расположения мишени относительно магнетрона;

  • Масса – 87 кг;

  • Размеры установки (ДхШхВ) – 1050х700х670 мм.

Оптимальное соотношение цена/качество для установок этого класса даёт возможность использовать его в учебном процессе образовательных учреждений, реализующих инновационные программы естественно-научного и инженерного направлений.

Вакуумная установка для термического напыления материалов VSE-PVD-LTE (ВСЭ)


Установка VSE-PVD-LTE предназначена для получения металлических и органических покрытий методом термического испарения.

Основные характеристики:

  • Число испарителей: танталовая лодочка - 1; низкотемпературный испаритель для органических веществ -1;

  • Объем испаряемого вещества: для танталовой лодочки - 2 см3; для низкотемпературного испарителя - 2 см3;

  • Рабочая температура испарителей: танталовой лодочки - 300 – 800О С; низкотемпературного испарителя - 50 – 400О С;

  • Вакуумная камера: габаритные размеры - 570 ×700 ×800 мм; рабочий объем - 180 л; предельный вакуум - не хуже 1,33x10-7 кПа;

  • Индикация: ЖК дисплеи, монитор;

  • Максимальная рабочая температура наружной поверхности вакуумной камеры: не выше +400О С;

  • Охлаждение: Воздушное + водяное;

  • Входное напряжение: 380 В; 50 Гц;

  • Потребляемая мощность: не более 7 кВт;

  • Общий габаритный размер: 800×2000×1300 мм;

  • Масса установки: не более 600 кг.
Вакуумные сушильные установки VSE-Pro-Dry (ВСЭ)


Для реализации технологии сушки термически неустойчивых продуктов разработана линейка вакуумных сушек при положительных температурах VSE-Pro-Dry – универсальное пищевое оборудование для получения качественного продукта из различного сырья.

Метод тепловой вакуумной сушки в отличие от методов сублимационной (лиофильной) и конвекционной сушки позволяет снизить энергетические затраты при высоком качестве получаемого продукта. Экономия времени процесса и оптимизация загрузки существенно увеличивают общую производительность. Размер максимальной загрузки может составлять до 200 кг. В зависимости от получаемой продукции, время одного цикла сушки – от 1,5 до 4 часов.

Благодаря уникальной системы влагостойких нагревателей достигается послойный равномерный инфракрасный нагрев, а система Wetflow обеспечивает равномерное распределение паров по объёму вакуумной камеры, за счёт чего добивается высокая повторяемая однородность влажности конечного продукта. Условия вакуумной сушки полностью обеспечивают чистоту продукта, т.к. все компоненты вакуумной сушки изготовлены только из химически неактивных материалов: пищевой нержавеющей стали и оксидированного алюминия без применения лакокрасочных покрытий. Камера оснащена системой контроля температуры конечного продукта с точностью до 0,5-1 Со и системой полной автоматизации технологического процесса, что даёт широкие возможности для подбора необходимого техпроцесса для сушки различных продуктов.

Использование вакуума позволяет быстро и эффективно сушить при температуре 45-55 Со. Это позволяет сохранять полезные органические вещества и вкус начального пищевого продукта. При необходимости сушить неорганические вещества можно увеличить температуру до 150 Со. Для обеспечения быстрой загрузки/разгрузки продукта камера комплектуется выдвижной кассетой. Дополнительно сушка может комплектоваться конденсатором для сбора экстрактов, выделенных из продукта.

Установки VSE-Pro-Dry успешно эксплуатируются на предприятиях по производству диетического питания и могут быть рекомендованы организациям пищевой, фармацевтической, химической промышленности, а также для всех видов производств с повышенными требованиями к скорости и чистоте процесса получения высококачественной продукции.

Установка по облучению ВУФ образцов в вакууме (ВСЭ)


Настольная установка «VSE-UV.c» предназначена для изучения влияния вакуумного ультрафиолетового излучения на различные материалы, в т.ч. для имитации космического излучения. В качестве источников ионизирующего излучения могут использоваться Ar2 эксимерная лампа (126 нм), Kr2 эксимерная лампа (146 нм), Xe2 эксимерная лампа (172 нм), а также дейтериевая лампа (113-165 нм – многолинейчатый спектр, 165-380 нм – сплошной спектр излучения).

Установка состоит из следующих частей: вакуумная камера; площадка для размещения образцов (термостатированный столик); источник ВУФ-излучения с системой питания; вакуумный насос; вакуумный датчик; комплект вакуумной арматуры; система нагрева/охлаждения.

Вакуумная камера изготовлена из нержавеющей стали с внутренним диаметром 300 и высотой 170 мм. Фланцы выполнены по современным международным стандартам. Сверху вакуумной камеры расположен фланец стандарта ISO 320, на котором размещаются источники ВУФ-излучения. Также на верхнем фланце со стороны вакуума предусмотрены крепления для малогабаритных источников других видов ионизирующих излучений (например, позволяющие установить в дальнейшем источники β-излучения). Камера оснащена смотровым окном из боросиликатного стекла, размещённым на стандартном фланце KF40, а также вакуумным термопарным вводом для подключения термопар К-типа, для прецизионного измерения температуры. Верхний фланец камеры установлен на прочном кронштейне, позволяющем подъем фланца и отвод его в сторону для удобства смены образцов. Конструкция кронштейна препятствует опрокидыванию камеры. Допускается размещение камеры на столе.

Площадка для размещения образцов находится в камере и обеспечивает размещение 12 образцов диаметром 30 мм с опциональной возможностью эффективного равномерного охлаждения (до температуры жидкого азота) или нагрева (до 150 0С). В зависимости от необходимой температуры система может содержать циркуляционный криостат с внешним контуром, объем с заливкой жидкого азота или омический нагреватель. Площадка размещается в вакуумной камере с тепловой развязкой и присоединена вакуумными фитингами, которые предусматривают возможность её быстрого и лёгкого извлечения. Площадка имеет термопару для осуществления контроля температуры.

Источник ВУФ-излучения состоит из специально сконструированной матрицы, включающей 4 излучательных блока с необходимой длиной волны по 3 лампы в каждом, с источниками питания. Лампы закреплены в сборке из двух металлических пластин, выполняющих функцию электродов (электродная сборка). Каждая из ламп вакуумно уплотняется на верхнем фланце вакуумной камеры, образуя матрицу. Выходные окна ламп находятся в вакууме, без промежуточных окон. При этом пользователь может регулировать расстояние от выходного окна лампы до образца.

При заказе возможно выбрать режим облучения/спектр излучения, а именно:

  1. Облучение образцов одной длиной волны всеми 12-ю лампами;

  2. Одновременное или поочередное облучение всех образцов секторами с разной длиной волны (сборка из 3 ламп имеет одну длину волны).

  3. Одновременное или поочерёдное облучение 4-х групп образцов своей длиной волны (группы образцов разделены экранами). Экраны защищают образцы от излучения с соседних секторов.

Источник ВУФ-излучения оснащён устройством принудительной канальной вентиляции VKK-125 для удаления образующегося озона и охлаждения ламп. Система питания позволяет включать каждый блок независимо.

Информацию о другом вакуумном оборудовании компании ООО ВСЭ или аналогичном оборудовании других производителей, Вы можете узнать у наших менеджеров по телефону 8 (727) 250-29-69 .
Системные и комплексные

решения для образования, науки и промышленности

Аналитическое и лабораторное

оборудование для макро, микро и нано исследований

▲ Наверх