Установка разработана для отработки технологий нанесения покрытий. Успешно применяется для проведения научных исследований в области материаловедения, приборостроения, электроники, нанесения оптических покрытий, микромеханических устройств (MEMS) методом магнетронного напыления металлических и диэлектрических покрытий на твёрдые и дисперсные образцы. Может с успехом использоваться в университетских курсах МЕТОДЫ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ.
Отличительные особенности установки:
-
полностью безмасляная откачка;
-
визуальный контроль процесса осаждения покрытий;
-
измерение скорости осаждения, толщины покрытия и ресурса кристалла кварцевыми микровесами с пневматической заслонкой;
-
минимизация диаметра нераспыляемой центральной части магнетрона;
-
возможность установки дополнительного магнетрона и ионного источника;
-
простота использования и высокое качество получаемых покрытий;
-
высокая повторяемость результатов с заданными свойствами.